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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[常見問題]二氧化硅拋光液與硅溶膠拋光液有啥不同[ 2023-08-11 16:04 ]
  二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝制備成的一種低金屬離子高純度CMP拋光產(chǎn)品。 硅溶膠拋光液是以液體形式存在，直徑為10-150nm的二氧化硅粒子（分散相）在水或有機液體（分散介質(zhì)）里的分散體系，粒子的形貌多為球形，適用于各類工件的鏡面拋光，如金屬、藍寶石襯底、半導體、光學玻璃、精密電子元器件等的鏡面拋光。 本質(zhì)上講二氧化硅拋光液、硅溶膠拋光液都是一種東西，主要成分都是SiO2只是叫法不同。在CMP研磨拋光工藝中，機器通過壓力泵把氧化硅拋光液輸送到拋光槽內(nèi)進行循環(huán)使用，
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[常見問題]如何解決氧化硅拋光液結(jié)晶問題[ 2023-05-09 17:17 ]
 二氧化硅拋光液在拋光過程中會出現(xiàn)結(jié)晶結(jié)塊的現(xiàn)象，雖然不是大問題但如果處理不當，很可能會導致工件表面劃傷甚至報廢，那么怎么解決氧化硅拋光液結(jié)晶問題呢？  首先要了解硅溶膠拋光液的特點屬性。二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)水解法離子、交換法制備成的一種高純度低金屬離子型產(chǎn)品。在水性環(huán)境中容易形成一種離子網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而一脫離了水份，表面積迅速凝結(jié)形成結(jié)晶塊，所以只要保持水分基本上是不會出現(xiàn)結(jié)晶現(xiàn)象。在實際CMP拋光工藝當中硅溶膠拋光液會一直在研磨盤轉(zhuǎn)動、流動，結(jié)晶情況較少。  因此氧化
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[吉致動態(tài)]硅溶膠研磨液--精密工件鏡面拋光效果秘密[ 2023-01-06 13:52 ]
  吉致電子硅溶膠研磨液/拋光液采用的是納米級工藝，主要粒徑在10-150nm。適用于各種材質(zhì)工件的CMP表面鏡面處理。以硅溶膠漿料為鏡面的平面研磨的材料有半導體晶圓、光學玻璃、3C電子金屬元件、藍寶石襯底、LED顯示屏等高精密元件。  硅溶膠拋光液也稱二氧化硅拋光液、氧化硅精拋液，SiO2是硅溶膠的化學名，適用范圍已擴展到半導體產(chǎn)品的CMP拋光工藝中。  CMP拋光機可以將氧化硅研磨液循環(huán)引入磨盤，同時起到潤滑和冷卻的作用，通過拋光液和拋光墊組合拋磨可以使工件表面粗糙度達到0.2um
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[行業(yè)資訊]半導體拋光液--球型二氧化硅拋光液的用途[ 2022-11-23 15:21 ]
  球形硅微粉作為拋光液磨料，可大大提高產(chǎn)品的剛性、耐磨性、耐候性、抗沖擊性、耐壓性、抗拉性、阻燃性、良好的耐電弧絕緣性和耐紫外線輻射性。讓我們來看看球型二氧化硅拋光液在電子芯片中的一些應用。  精密研磨粉高純球形硅粉用于光學器件和光電行業(yè)的精密研磨，特別適用于半導體單晶多晶硅片、顯像管玻殼玻屏、光學玻璃、液晶顯示器(LCD、LED)玻璃基板、壓電晶體、化合物半導體材料(砷化鎵、磷化銦)、磁性材料等半導體行業(yè)的研磨拋光。  吉致電子用高純球形硅粉制備成的超高純硅溶膠拋光液slurry,
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[常見問題]CMP拋光液中磨料對拋光效果的影響[ 2022-08-30 15:49 ]
磨料對拋光效果的影響在CMP拋光過程中磨料的作用是借助機械力，通過化學反應去除工件或晶圓表面形成的鈍化膜，從而達到表面平坦化的目的。CMP拋光液常用的磨料有硅溶膠SiO2、氧化鋁Al2O3、氧化鈰CeO2、金剛石等。磨料的種類磨料的種類和材質(zhì)決定了拋光液中微粒的硬度和粒徑，從而影響拋光效果。拋光鋁合金工件實驗中相對于氧化鋁拋光液Al2O3磨料，氧化硅拋光液SiO2磨料能獲得較好的表面平整度、更少的表面劃痕和更小的尺寸。原因是硅溶膠拋光液SiO2磨粒尺寸較小，拋光時磨料嵌入晶圓表面的深度較小。 此外，通過優(yōu)
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[常見問題]吉致電子硅溶膠拋光液的適用范圍[ 2022-08-19 15:44 ]
硅溶膠拋光液又稱氧化硅拋光液，通過離子交換法和水解法制備不同粒徑的穩(wěn)定硅溶膠，經(jīng)過鈍化添加化學助劑和特殊工藝配制成的二氧化硅拋光漿料，廣泛應用于集成電路半導體、特殊材料、金屬工件、脆硬鏡面的拋光。吉致電子25年CMP拋光液生產(chǎn)廠家，可根據(jù)客戶不同工藝要求定制調(diào)整拋光漿料。氧化硅拋光液主要適用范圍:1.可用于玻璃陶瓷的表面拋光。2.用于硅片和IC加工的粗拋和精拋，適用于大規(guī)模集成電路多層膜的平坦化。3.用于半導體元件的加工，如晶圓后道CMP清洗、光導攝像管、多晶化模塊、平板顯示器、微電機系統(tǒng)等。4.廣泛應用于CMP化
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[吉致動態(tài)]鏡面拋光液---氧化硅拋光液在拋光中的作用[ 2022-08-12 14:17 ]
鏡面拋光液的主要材料是納米二氧化硅磨料，制備成的液體漿料也稱為硅溶膠拋光液。二氧化硅拋光液主要適用于拋光藍寶石襯底、硅片、半導體、精密電子工件、晶體等產(chǎn)品。二氧化硅拋光漿料主要利用硅膠離子的高速拋光來達到表面處理的效果。二氧化硅是用納米技術(shù)制成的。根據(jù)工件拋磨要求，可制備出不同切削力的產(chǎn)品達到鏡面拋光。粒度控制可以有效減少電子工件上的污垢，使用納米級硅膠顆粒加工工件，不會損傷工件，同時還能達到理想效果氧化硅拋光液需要配合精拋墊使用，精拋墊的主要成分是聚氨酯，聚氨酯的眾多孔隙可以將拋光液均勻地粘在其表面，與工件一起研
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[吉致動態(tài)]氧化硅拋光液的結(jié)晶問題[ 2022-08-12 13:25 ]
  氧化硅拋光液長時間暴露在空氣中，會使水分蒸發(fā)剩下固體氧化硅，造成硅晶體析出現(xiàn)象，稱之為結(jié)晶。在實際應用時，硅溶膠拋光液會一直在磨盤內(nèi)旋轉(zhuǎn)循環(huán)及流動，結(jié)晶現(xiàn)象較少，但是高溫或拋光液濃度沒有配置好，會造成團聚，損傷工件，影響拋光效果。根據(jù)二氧化硅的特性，吉致電子拋光液廠家開發(fā)了抗結(jié)晶納米二氧化硅拋光液，可以長時間保持氧化硅穩(wěn)定液體狀態(tài)。拋磨工件時易搖散且不團聚，化學性能穩(wěn)定分散均勻，氧化硅精拋液拋光效率高，能有效縮短工時，磨拋后工件呈現(xiàn)鏡面效果，無劃傷、高平坦。  外需要注意的是，氧化硅拋光液的
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[行業(yè)資訊]吉致電子--拋光液的主要成分和功能有哪些？[ 2022-07-22 16:52 ]
  拋光液的主要成分可分為以下幾類:氧化鋁拋光液、氧化鈰拋光液、金剛石研磨液(聚晶鉆石拋光液、單晶金剛石拋光液、納米金剛石拋光液)、氧化硅拋光液、碳化硅拋光液。  硅溶膠拋光液(氧化硅拋光液)是以高純硅粉為原料，通過特殊工藝（如水解法）生產(chǎn)的高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛應用于多種納米級材料的高平坦化拋光，如硅晶片、鍺晶片、砷化鎵、磷化銦等化合物半導體材料、精密光學器件、藍寶石襯底、藍寶石窗口等。  金剛石拋光液以金剛石微粉為主要成分，高分散配方，硬度高韌性好，有良好的高切削率，不易
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[行業(yè)資訊]CMP拋光技術(shù)在半導體和藍寶石工件中的應用[ 2022-07-05 15:08 ]
藍寶石襯底拋光用什么工藝可以實現(xiàn)？LED芯片又是怎么實現(xiàn)表面拋光平整的？吉致電子拋光液小編帶您了解！目前LED芯片主要采用的襯底材料是藍寶石，在加工過程中需要對其進行減薄和拋光。藍寶石的硬度高，普通磨料難以對其進行加工。在用金剛石研磨液對藍寶石襯底表面進行減薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用"軟磨硬"的原理很好的實現(xiàn)了藍寶石表面的精密拋光。隨著LED行業(yè)的快速發(fā)展，聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。CMP技術(shù)還廣泛的應用于集成電路(IC)和大規(guī)模
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[常見問題]氧化硅拋光液顏色的區(qū)別[ 2022-06-23 13:42 ]
吉致電子氧化硅拋光液的顏色有白色、乳白色和淺藍色。硅溶膠拋光液顏色不同，其二氧化硅含量和用途也不一樣。一般來說，二氧化硅拋光液顏色越藍，濃度越高，粒度越細。濃度降低顏色就會變白，但是含量過低也會變白，這個要做濃度測試才能判斷。二氧化硅拋光液的顏色不同，拋光工件的類型和粒度也不同。一般鑄造鋁合金的液態(tài)二氧化硅是藍色的，且藍色比較透明，這樣的氧化硅粒徑較小，因為鋁合金鏡面的光澤度要求更高。一般來說，工件光澤度要求越高，拋光耗材的粒度越小，這就決定了鋁合金拋光液粒度要達納米級別的原因。拋光不銹鋼金屬的氧化硅溶液一般為乳白
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