硅溶膠拋光液又稱氧化硅拋光液，通過(guò)離子交換法和水解法制備不同粒徑的穩(wěn)定硅溶膠，經(jīng)過(guò)鈍化添加化學(xué)助劑和特殊工藝配制成的二氧化硅拋光漿料，廣泛應(yīng)用于集成電路半導(dǎo)體、特殊材料、金屬工件、脆硬鏡面的拋光。吉致電子25年CMP拋光液生產(chǎn)廠家，可根據(jù)客戶不同工藝要求定制調(diào)整拋光漿料。

氧化硅拋光液主要適用范圍:

1.可用于玻璃陶瓷的表面拋光。

2.用于硅片和IC加工的粗拋和精拋，適用于大規(guī)模集成電路多層膜的平坦化。

3.用于半導(dǎo)體元件的加工，如晶圓后道CMP清洗、光導(dǎo)攝像管、多晶化模塊、平板顯示器、微電機(jī)系統(tǒng)等。

4.廣泛應(yīng)用于CMP化學(xué)機(jī)械拋光，如硅晶圓、藍(lán)寶石襯底、鈦合金邊框、化合物晶體、精密光學(xué)器件、硬盤(pán)盤(pán)片等的納米級(jí)和亞納米級(jí)拋光。

吉致電子CMP拋光液高平坦配方設(shè)計(jì)，不會(huì)對(duì)工件造成物理?yè)p傷，拋光效果可達(dá)鏡面。

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