如何解決氧化硅拋光液結晶問題
二氧化硅拋光液在拋光過程中會出現結晶結塊的現象,雖然不是大問題但如果處理不當,很可能會導致工件表面劃傷甚至報廢,那么怎么解決氧化硅拋光液結晶問題呢?
首先要了解硅溶膠拋光液的特點屬性。二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料,經水解法離子、交換法制備成的一種高純度低金屬離子型產品。在水性環(huán)境中容易形成一種離子網狀結構,而一脫離了水份,表面積迅速凝結形成結晶塊,所以只要保持水分基本上是不會出現結晶現象。在實際CMP拋光工藝當中硅溶膠拋光液會一直在研磨盤轉動、流動,結晶情況較少。
因此氧化硅拋光液存儲環(huán)境要在陰涼避光處溫度5-30℃之間。并且拋磨工作完成后及時清洗處理盤面和拋光墊,這樣就不容易在拋光墊和機臺上殘留二氧化硅結晶。
吉致電子科技根據二氧化硅磨料的特性,研發(fā)了非晶態(tài)納米二氧化硅拋光液,氧化硅精拋液等,可以長時間保持非結晶狀態(tài)。使用過程中保持穩(wěn)定的膠體狀態(tài),分散均勻(不結塊),腐蝕速率穩(wěn)定,達到鏡面拋光效果。
本文由無錫吉致電子科技原創(chuàng),版權歸無錫吉致電子科技,未經允許,不得轉載,轉載需附出處及原文鏈接。http://5minute-ebook.com/
無錫吉致電子科技有限公司
聯(lián)系電話:17706168670
郵編:214000
地址:江蘇省無錫市新吳區(qū)行創(chuàng)四路19-2
相關資訊
最新產品
同類文章排行
- 第三代半導體--碳化硅和氮化鎵的區(qū)別
- 藍寶石襯底拋光液--納米氧化鋁拋光液/研磨液
- 半導體拋光中銅拋光液和鎢拋光液的區(qū)別
- 打磨碳化硅需要哪種拋光墊?
- 二氧化硅拋光液與硅溶膠拋光液有啥不同
- 碳化硅Sic襯底加工流程有哪些
- 半導體拋光---硅片拋光墊怎么選
- 藍寶石拋光用什么拋光液
- 鎢鋼用什么研磨液和拋光液
- CMP常用化學拋光液有哪些