二氧化硅拋光液在拋光過程中會出現(xiàn)結晶結塊的現(xiàn)象，雖然不是大問題但如果處理不當，很可能會導致工件表面劃傷甚至報廢，那么怎么解決氧化硅拋光液結晶問題呢？

  首先要了解硅溶膠拋光液的特點屬性。二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經水解法離子、交換法制備成的一種高純度低金屬離子型產品。在水性環(huán)境中容易形成一種離子網狀結構，而一脫離了水份，表面積迅速凝結形成結晶塊，所以只要保持水分基本上是不會出現(xiàn)結晶現(xiàn)象。在實際CMP拋光工藝當中硅溶膠拋光液會一直在研磨盤轉動、流動，結晶情況較少。

  因此氧化硅拋光液存儲環(huán)境要在陰涼避光處溫度5-30℃之間。并且拋磨工作完成后及時清洗處理盤面和拋光墊，這樣就不容易在拋光墊和機臺上殘留二氧化硅結晶。

  吉致電子科技根據二氧化硅磨料的特性，研發(fā)了非晶態(tài)納米二氧化硅拋光液，氧化硅精拋液等，可以長時間保持非結晶狀態(tài)。使用過程中保持穩(wěn)定的膠體狀態(tài)，分散均勻(不結塊)，腐蝕速率穩(wěn)定，達到鏡面拋光效果。

本文由無錫吉致電子科技原創(chuàng)，版權歸無錫吉致電子科技，未經允許，不得轉載，轉載需附出處及原文鏈接。http://www.5minute-ebook.com/

無錫吉致電子科技有限公司

聯(lián)系電話：17706168670

郵編：214000

地址：江蘇省無錫市新吳區(qū)行創(chuàng)四路19-2