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[常見問題]CMP拋光液---半導(dǎo)體拋光液種類有哪些[ 2024-08-09 09:01 ]

半導(dǎo)體拋光液種類有哪些？CMP拋光液在集成電路領(lǐng)域的應(yīng)用遠(yuǎn)不止晶圓拋光，半導(dǎo)體使用的CMP制程包括氧化層（Oxide CMP）、多晶硅（Poly CMP）、金屬層（Metal CMP）。就拋光工藝而言，不同制程的產(chǎn)品需要不同的拋光流程，28nm制程需要12~13次CMP，進(jìn)入10nm制程后CMP次數(shù)將翻倍，達(dá)到25~30次。STI CMP Slurry---淺溝槽隔離平坦化 STI淺溝槽隔離技術(shù)是用氧化物隔開各個(gè)門電路，使各門電路之間互不導(dǎo)通，STI CMP工藝的目標(biāo)是去除填充在淺溝槽中的

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[常見問題]半導(dǎo)體拋光中銅拋光液和鎢拋光液的區(qū)別[ 2023-08-18 16:58 ]

常用的半導(dǎo)體拋光液，按拋光對(duì)象的不同分W鎢拋光液、CU銅拋光液、氧化層拋光液、STI拋光液等。其中銅拋光液slurry主要應(yīng)用于 130nm 及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)邏輯芯片的制造工藝，而鎢拋光液W slurry則大量應(yīng)用于存儲(chǔ)芯片制造工藝，在邏輯芯片中用量較少。銅拋光液，主要由腐蝕劑、成膜劑和納米磨料組成。腐蝕劑用來腐蝕溶解銅表面，成膜劑用于形成銅表面的鈍化膜，鈍化膜的形成可以保護(hù)腐蝕劑的進(jìn)一步腐蝕，并可有效地降低金屬表面硬度。除此之外，CMP拋光液中經(jīng)常添加一些化學(xué)試劑以調(diào)節(jié)PH值，為拋光過程

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[行業(yè)資訊]什么是OX研磨液?吉致電子氧化層拋光液性能有哪些？[ 2023-04-19 10:08 ]

Oxide slurry 簡(jiǎn)稱OX氧化物研磨液廣泛用于氧化層材料的CMP拋光，拋光研磨后達(dá)到精準(zhǔn)的表面平整度和厚度控制，如Si Wafer晶圓表面的氧化硅層或者上層金屬與氧化硅之間的氧化硅層等。吉致電子OX氧化層拋光液適用于4-12英寸氧化硅鍍膜片的氧化層拋光液。JEEZ半導(dǎo)體拋光液性能優(yōu)點(diǎn)：①使用純度高的納米拋光磨料，擁有高速率加工能力;②slurry粒徑大小均勻因此能獲得無缺陷的表面；③ 吉致Oxide slurry 易清洗無殘留，對(duì)后續(xù)工藝影響小。

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[行業(yè)資訊]半導(dǎo)體拋光液--球型二氧化硅拋光液的用途[ 2022-11-23 15:21 ]

球形硅微粉作為拋光液磨料，可大大提高產(chǎn)品的剛性、耐磨性、耐候性、抗沖擊性、耐壓性、抗拉性、阻燃性、良好的耐電弧絕緣性和耐紫外線輻射性。讓我們來看看球型二氧化硅拋光液在電子芯片中的一些應(yīng)用。精密研磨粉高純球形硅粉用于光學(xué)器件和光電行業(yè)的精密研磨，特別適用于半導(dǎo)體單晶多晶硅片、顯像管玻殼玻屏、光學(xué)玻璃、液晶顯示器(LCD、LED)玻璃基板、壓電晶體、化合物半導(dǎo)體材料(砷化鎵、磷化銦)、磁性材料等半導(dǎo)體行業(yè)的研磨拋光。吉致電子用高純球形硅粉制備成的超高純硅溶膠拋光液slurry,

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[應(yīng)用案例]半導(dǎo)體拋光液---陶瓷覆銅板DPC拋光液/DBC研磨液[ 2022-11-18 14:46 ]

吉致電子陶瓷覆銅板研磨液/DPC拋光液/DBC研磨液通常有粗拋和精拋兩道工藝，根據(jù)客戶對(duì)工件拋磨要求和表面粗糙度不同，選擇不同的DPC研磨液或精拋液。陶瓷覆銅板DPC/DBC的粗拋工藝，主要是快速減薄尺寸，提高拋磨效率。對(duì)于質(zhì)量度要求更高的DPC基板，需要進(jìn)行二次精拋，達(dá)到去除表面缺陷和不良效果的目的，使用吉致電子陶瓷覆銅板研磨液/精拋液后，DPC/DBC基板的表面粗糙度RA值可達(dá)0.003μm以下。選擇吉致陶瓷覆銅板研磨液/DPC拋光液/DBC研磨液可實(shí)現(xiàn)陶瓷基板粗拋、精拋不同階段效果。經(jīng)過吉致CMP拋光后，工

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[行業(yè)資訊]半導(dǎo)體拋光液---半導(dǎo)體材料有哪些？[ 2022-11-17 15:37 ]

半導(dǎo)體業(yè)內(nèi)從材料端分為：第一代元素半導(dǎo)體材料，如硅（Si）和鍺(Ge)；第二代化合物半導(dǎo)體材料：如砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP）等；第三代寬禁帶材料：如碳化硅（SiC）、氮化鎵（GaN）、氮化鋁（ALN）、氧化鎵（Ga2O3）等。碳化硅（SiC）和氮化鎵（GaN）、氮化鋁（ALN）、氧化鎵（Ga2O3）等，因?yàn)榻麕挾却笥?.2eV統(tǒng)稱為寬禁帶半導(dǎo)體材料，在國(guó)內(nèi)也稱為第三代半導(dǎo)體材料。其中碳化硅和氮化鎵是目前商業(yè)前景最明朗的半導(dǎo)體材料，堪稱半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)內(nèi)新一代“黃金賽道&

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[客戶感言]半導(dǎo)體拋光液國(guó)產(chǎn)平替----射頻濾波器拋光液[ 2022-09-19 16:00 ]

我們是廣東一家半導(dǎo)體廠商，主要是做射頻濾波器件的，制程其中有一道CMP工藝要用到拋光液等耗材。近幾年隨著國(guó)家半導(dǎo)體事業(yè)的發(fā)展，很多物料遭受國(guó)外卡脖子限制，就算能買回來不僅價(jià)格高，交期也要很久。海外采購(gòu)過程費(fèi)時(shí)費(fèi)力費(fèi)錢，導(dǎo)致我們一直以來都是看國(guó)外廠商的臉色，最近也是痛下決心要國(guó)產(chǎn)化替代。期間測(cè)試了很久，也試了很多家廠商，測(cè)試的結(jié)果總是不理想，最主要的是在臺(tái)階選擇比上的體現(xiàn)。一籌莫展之際，找到了吉致電子科技有限公司！貴司的服務(wù)和產(chǎn)品效果也是讓我大吃一驚，期間送樣測(cè)試也是免費(fèi)的，

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[常見問題]半導(dǎo)體拋光液是什么？[ 2022-09-15 15:51 ]

半導(dǎo)體拋光液是什么？簡(jiǎn)單來說拋光液是通過化學(xué)機(jī)械反應(yīng)，去除半導(dǎo)體工件表面的氧化層，達(dá)到光潔度和高平坦要求的化學(xué)液體。半導(dǎo)體CMP拋光液是超細(xì)固體研磨材料和化學(xué)添加劑的混合物，制備成均勻分散的懸浮液，起到研磨、潤(rùn)滑和腐蝕溶解等作用，主要原料包括研磨顆粒、PH調(diào)節(jié)劑、氧化劑和分散劑等。拋光液的分類：根據(jù)酸堿性可以分為：酸性拋光液和堿性拋光液、中性拋光液。根據(jù)拋磨材質(zhì)可以分為：金屬拋光液和非金屬拋光液。根據(jù)拋光對(duì)象不同，拋光液可分為銅拋光液、鎢拋光液、硅拋光液和鈷拋光液等。其中，銅拋光液和鎢拋

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