工廠的鉬片加工工藝采用粗磨、雙端面立磨等研磨工藝，粗磨的合格率僅在85％左右，整體平行度不良居多，造成產(chǎn)品合格率下降，也造成后續(xù)加工難度，這與金屬鉬的特性有關，目前鉬片采用CMP拋光工藝（拋光液+拋光墊）能達到鏡面效果。

  鉬的特點：鉬是一種難溶金屬，具有很多優(yōu)良的物力化學和機械性能。由于原子間結合力極強，所以在常溫和高溫下強度均非常高。它的膨脹系數(shù)低，導電率大，導熱性好。在常溫下不與鹽酸、氫氟酸及堿溶液反應，僅溶于硝酸、王水或濃硫酸之中，對大多數(shù)液態(tài)金屬、非金屬熔渣和熔融玻璃亦相當穩(wěn)定。

 金屬鉬在冶金、農(nóng)業(yè)、電器、化工、環(huán)保和宇航等領域應用廣泛，鉬必須以受控的方式通過拋光或磨光移除，以實現(xiàn)適合例如用于半導體器件制造的表面性質(zhì)。

吉致可提供鉬片/金屬鉬的鏡面拋光液：

1、微米/納米級拋光液，拋光后具有均勻鏡面效果

2、磨料顆粒呈懸浮狀態(tài)，不易分散沉淀，提高CMP效率和穩(wěn)定性

3、鉬片專用拋光液磨料硬度高、穩(wěn)定性好、化學惰性強，

通過CMP化學機械平面拋光工藝，結合吉致電子平面研磨機配合研磨液、拋光液、研磨盤就可以達到理想鏡面效果。

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