吉致咨詢第116期 研磨拋光液
1、研磨拋光液介紹:
研磨拋光液是不同于固結(jié)磨具,涂附磨具的另一類"磨具",磨料在分散劑中均勻、游離分布。研磨拋光液可分為研磨液和拋光液。一般研磨液用于粗磨,拋光液用于精密磨削。拋光液通常用于研磨液的下道工序,行業(yè)中也把拋光液稱為研磨液或把研磨液稱為拋光液的。
2、研磨液分類:
研磨液按其作用機(jī)理分:機(jī)械作用研磨液,化學(xué)機(jī)械作用研磨液。
機(jī)械作用的研磨液:以金剛石、B4C等為磨料,通過(guò)添加分散劑等方式分散到液體介質(zhì)中,從而形成具有磨削作用的液體,稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布,利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理,實(shí)現(xiàn)工件的研磨、減薄。根據(jù)磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設(shè)備穩(wěn)定性等情況,研磨完成后,工件表面容易留下或大或小的劃痕。所以,機(jī)械作用的研磨液一般用于粗磨,后續(xù)還需要精密研磨拋光。
化學(xué)機(jī)械作用研磨液:化學(xué)機(jī)械作用研磨液利用了磨損中的"軟磨硬"原理,即用較軟的材料來(lái)進(jìn)行拋光以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的拋光表面,是機(jī)械削磨和化學(xué)腐蝕的組合技術(shù),它借助微粒子的研磨作用和化學(xué)腐蝕作用在被研磨的介質(zhì)表面形成光潔平坦表面。所以化學(xué)機(jī)械作用研磨液又稱為化學(xué)機(jī)械拋光液(Chemical Mechanical Polishing,簡(jiǎn)稱CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下,被拋光工件相對(duì)于拋光墊作相對(duì)運(yùn)動(dòng),借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機(jī)結(jié)合,在被研磨的工件表面形成光潔表面。
化學(xué)機(jī)械拋光液(CMP)根據(jù)磨料不同的分類:
二氧化硅研磨液,氧化鈰研磨液,氧化鋁研磨液等。
金剛石研磨液根據(jù)磨料不同的分類:
金剛石研磨液是由金剛石磨料與分散液組成,根據(jù)金剛石微粉的類型分為單晶金剛石研磨液、多晶金剛石研磨液和爆轟納米金剛石研磨液三種。
金剛石研磨液的應(yīng)用:
(1)單晶金剛石研磨液
單晶金剛石研磨液具有良好的切削力,加工成本相對(duì)較低。廣泛適用于硬材料、硬質(zhì)合金等硬質(zhì)材料的研磨拋光。既可以提高磨削速率,又可以將磨削過(guò)程中產(chǎn)生的大量熱量迅速排走,從而避免工件表面被燒傷。
(2)多晶金剛石研磨液
多晶金剛石研磨液利用多晶金剛石良好的韌性,在研磨拋光過(guò)程中能夠保持高磨削力的同時(shí)不易產(chǎn)生劃傷,為后續(xù)精密拋光加工提供了良好的條件。廣泛用于光學(xué)晶體、陶瓷、硬合金等各種硬質(zhì)材料的研磨和拋光。
(3)納米金剛石研磨液
納米金剛石研磨液是由爆轟金剛石微粉在水中均勻分散而成,具有良好的分散穩(wěn)定性,廣泛適用于精密拋光。光學(xué)玻璃和寶石對(duì)加工的精度有著高的要求,納米金剛石研磨液可以在保持較高磨削速率的同時(shí),形成高質(zhì)量的加工表面。
CMP拋光液的應(yīng)用:
1. LED行業(yè)
目前LED芯片主要采用的襯底材料是藍(lán)寶石,在加工過(guò)程中需要對(duì)其進(jìn)行減薄和拋光。藍(lán)寶石的硬度高,普通磨料難以對(duì)其進(jìn)行加工。在用金剛石研磨液對(duì)藍(lán)寶石襯底表面進(jìn)行減薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用"軟磨硬"的原理很好的實(shí)現(xiàn)了藍(lán)寶石表面的精密拋光。隨著LED行業(yè)的快速發(fā)展,聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。
2.半導(dǎo)體行業(yè)
CMP技術(shù)還廣泛的應(yīng)用于集成電路(IC)和大規(guī)模集成電路中(ULSI)對(duì)基體材料硅晶片的拋光。隨著半導(dǎo)體工業(yè)的急速發(fā)展,對(duì)拋光技術(shù)提出了新的要求,傳統(tǒng)的拋光技術(shù)(如:基于淀積技術(shù)的選擇淀積、濺射等)雖然也可以提供"光滑"的表面,但卻都是局部平面化技術(shù),不能做到全局平面化,而化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)解決了這個(gè)問(wèn)題,它是目前一的可以在整個(gè)硅圓晶片上全平坦化的工藝技術(shù)。
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『拋光皮』
拋光皮種類:阻尼布拋光皮,聚氨酯拋光皮,白磨皮拋光皮
『拋光液』
拋光液種類:氧化硅拋光液,氧化鋁拋光液,金剛石拋光液
『吉致電子』拋光材料 源頭廠家 25年專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)
高速拋磨精密表面 高效·環(huán)保·安全
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