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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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CMP金剛石懸浮液/研磨液的特點(diǎn)及應(yīng)用

文章出處:責(zé)任編輯:人氣:-發(fā)表時(shí)間:2023-03-03 14:01【

吉致電子金剛石研磨液產(chǎn)品特點(diǎn):

(1)磨料類型多樣化,包含單晶、多晶、類多晶及納米級(jí)金剛石等;

(2)金剛石懸浮液包含水性、油性及乳化型;

(3)金剛石研磨液粘度可調(diào)整,包含低粘度、中等粘度和高粘度;

金剛石懸浮液研磨液.jpg

吉致電子金剛石懸浮液/研磨液應(yīng)用領(lǐng)域:

1、半導(dǎo)體晶片拋光液CMP加工:藍(lán)寶石襯底、碳化硅、氮化鎵等半導(dǎo)體晶片;

2、拋光液陶瓷加工:陶瓷指紋識(shí)別片、氧化鋯陶瓷手機(jī)后殼及其它功能陶瓷;

3、拋光液用于金屬材料加工:不銹鋼、鋁合金、鈦合金、合金銅及其它金屬材料。

吉致電子CMP拋光液研發(fā)生產(chǎn)廠家,產(chǎn)品質(zhì)量和效果媲美進(jìn)口slurry,CMP拋光液粒度規(guī)格可根據(jù)客戶要求定制。

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