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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[吉致動態(tài)]吉致電子主要業(yè)務及CMP產(chǎn)品有哪些[ 2024-06-04 16:54 ]
吉致電子科技有限公司的主要業(yè)務及服務行業(yè)有:半導體集成電路、金屬行業(yè)、光電行業(yè)、陶瓷行業(yè)等。CMP產(chǎn)品包括:拋光液、拋光墊、清洗劑、其他研磨拋光耗材等。吉致電子致力于產(chǎn)品質量嚴格管控,多年研發(fā)經(jīng)驗技術,已為數(shù)家百強企業(yè)提供拋光解決方案并長期合作。吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品主要包括以下系列:半導體集成電路:Si wafer slurry / SiC wafer slurry / W slurry / IC CU slurry / Oxide slurry / 3D TSV CU slurry / FA slurry /
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[常見問題]CMP設備及耗材對半導體硅片拋磨有影響嗎?[ 2024-03-20 17:22 ]
CMP設備及耗材對工藝效果影響嗎?答案是:有關鍵影響。CMP工藝離不開設備機臺及耗材,其中耗材包括拋光墊和拋光液。影響CMP效果主要因素如下:①設備參數(shù):拋光時間、研磨盤轉速、拋光頭轉速、拋光頭搖擺度、背壓、下壓力等;②研磨液參數(shù):磨粒大小、磨粒含量、磨粒凝聚度、酸堿度、氧化劑含量、流量、粘滯 系數(shù)等 ;③拋光墊參數(shù):硬度、密度、空隙大小、彈性等;④CMP對象薄膜參數(shù):種類、厚度、硬度、化學性質、圖案密度等。CMP耗材包括拋光液、拋光墊、鉆石碟、清洗液等,對 CMP 工藝效應均有關鍵影響。1. CMP 拋
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[常見問題]不銹鋼工件原始品質對CMP拋光效果的影響[ 2023-02-16 15:22 ]
  不銹鋼鏡面拋光效果的優(yōu)良,不僅取決于拋光方案設計、拋光耗材(CMP拋光液、拋光墊)選擇和拋光參數(shù)設置,不銹鋼拋光工件的原始品質也影響到最終的拋光的效果。當拋光效果不盡人意時,不僅要對拋光方案、所使用耗材的品質進行評估和優(yōu)化,同時對于工件的質量也要有所考慮。  不銹鋼工件品質對CMP拋光工藝的影響1.優(yōu)質的的不銹鋼工件是獲得良好拋光質量的前提條件,工件表面硬度不均或特性上有差異都會對拋光產(chǎn)生一定的困難。金屬工件中的夾雜物和氣孔都是影響拋光的不利因素。2.電火花加工后的金屬表面難以研磨,若未在加
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[常見問題]吉致電子拋光液--CMP拋光工藝在半導體行業(yè)的應用[ 2023-02-09 13:14 ]
  CMP化學機械拋光應用于各種集成電路及半導體行業(yè)等減薄與平坦化拋光,吉致電子拋光液在半導體行業(yè)的應用,主要為STI CMP、Oxide CMP、ILD CMP、IMD CMP提供拋光漿料與耗材。  CMP一般包括三道拋光工序,包括CMP拋光液、拋光墊、拋光蠟、陶瓷片等。拋光研磨工序根據(jù)工件參數(shù)要求,需要調整不同的拋光壓力、拋光液組分、pH值、拋光墊材質、結構及硬度等。CMP拋光液和CMP拋光墊是CMP工藝的核心要素,直接影響工件表面的拋光質量。  在半導體行業(yè)CMP環(huán)節(jié)之中,也存在
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[常見問題]不銹鋼拋光液如何達到鏡面效果[ 2022-08-18 14:29 ]
  在金屬表面處理過程中,不銹鋼平面拋光達到鏡面效果是最常見的要求,要求也各不相同。如果想達到高質量的拋光效果,最重要的是要有專業(yè)的平面磨拋機、優(yōu)質拋光耗材(拋光液、拋光墊)和相應的配套拋光方案,以及熟練的操作人員。不銹鋼拋光程序取決于工件毛坯的粗糙度,如機加工,電火花,磨削,鑄造等產(chǎn)生的凹坑、毛刺、劃痕、麻點等問題。  吉致電子小編帶您了解一下什么是不銹鋼鏡面拋光。要達到不銹鋼工件拋光的鏡面效果,一般分為粗拋、中拋、精拋三個步驟。粗拋:又叫“開粗”,主要是通過研磨拋光機
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