- [行業(yè)資訊]半導(dǎo)體晶圓CMP化學(xué)機械研磨拋光的原因[ 2024-06-24 17:19 ]
- 什么是CMP化學(xué)機械研磨拋光？CMP（Chemical Mechanical Polishing）其實為化學(xué)與機械研磨（C&MP）的意思，化學(xué)作用與機械作用平等。目前CMP已成為半導(dǎo)體制程主流，其重要的原因主要有二：①為了縮小芯片面積，因此采用集成度高、細(xì)線化的多層金屬互連線（七層以上），因線寬極細(xì)，且需多層堆疊，故光刻制程即為一關(guān)鍵步驟。若晶圓表面凹凸不平，平坦度差，則會影響光刻精確度，因此需以CMP達(dá)成晶圓上金屬層間之全面平坦化（Global Planarization）。②為了降低元件之電
-
http://5minute-ebook.com/Article/bdtjycmphx_1.html
相關(guān)搜索
- 無相關(guān)搜索
吉致熱門資訊
-
吉致電子CMP精拋墊的作用有哪些 -
喜迎“六一”歡度“端午”----吉致電子員工團(tuán)建活動
-
吉致電子---氧化硅拋光液的特點和作用
-
氧化硅拋光液的結(jié)晶問題
-
鏡面拋光液---氧化硅拋光液在拋光中的作用
-
什么是金剛石研磨液
-
吉致電子納米氧化硅拋光液的特點
-
吉致電子CMP拋光液適用設(shè)備有哪些？
-
納米拋光液---納米氧化鋁拋光液
-
相聚吉致 歡度中秋---2022年吉致電子科技中秋團(tuán)建活動
-
吉致電子 射頻濾波器拋光液slurry廠家
-
吉致電子CMP不銹鋼拋光液的特點
-
吉致電子淺槽隔離拋光液怎么用
-
不銹鋼拋光液的CMP鏡面拋光
-
吉致電子--不銹鋼工件的研磨拋光工序
-
吉致電子Slurry拋光漿料--阻擋層拋光液
-
硅溶膠研磨液--精密工件鏡面拋光效果秘密
-
2023吉致電子春節(jié)放假通知
-
吉致電子常見的CMP研磨液
-
CMP拋光液---納米氧化鈰拋光液的優(yōu)點
