單一磨料CMP拋光液

  化學(xué)機(jī)械CMP拋光液在研究初期大多是使用單一磨料，如氧化鋁拋光液（Al2O3）、二氧化硅拋光液（SiO2）、二氧化鈰拋光液（CeO2）、氧化鋯拋光液（ZrO2）和金剛石拋光液等。其中研究應(yīng)用最多的是Al2O3、SiO2和CeO2磨料拋光液。

  氧化鋁拋光液--Al2O3的硬度高，多用于藍(lán)寶石、碳化硅、光學(xué)玻璃、晶體和合金材料的拋光，但含Al2O3的拋光液會出現(xiàn)選擇性低、分散穩(wěn)定性不好、易團(tuán)聚的問題，容易在拋光表面造成劃傷，一般需要配合各種添加劑使用才能獲得良好的拋光表面。

  氧化硅拋光液--SiO2具有良好的穩(wěn)定性和分散性，不會引入金屬陽離子污染，其硬度與單質(zhì)硅接近，對基底材料造成的刮傷、劃痕較少，適合用于軟金屬、硅等材料的拋光，是應(yīng)用最廣泛的拋光液。

  氧化鈰拋光液--CeO2具有較為適中的硬度，由于Ce元素具有多種價態(tài)且不同價態(tài)間易轉(zhuǎn)化，容易將玻璃表面物質(zhì)氧化或絡(luò)合，因此CeO2被廣泛應(yīng)用于手機(jī)屏幕、光學(xué)玻璃、液晶顯示器和硬盤等產(chǎn)品的化學(xué)機(jī)械拋光中。但是Ce為稀土元素，且現(xiàn)有加工工藝較為復(fù)雜，生產(chǎn)出的CeO2磨料的粒徑分布不均勻，而導(dǎo)致CeO2拋光液的使用成本較高，限制了CeO2拋光液的發(fā)展應(yīng)用。

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