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不銹鋼拋光液的CMP鏡面拋光
手機、電腦、平板電腦等移動終端設(shè)備,會用到不銹鋼、鈦合金、鋁合金等金屬材質(zhì),為了達到增強光澤度和平坦度,金屬手機工件需要Logo拋光、攝像頭保護件拋光、手機按鍵拋光、手機邊框拋光等工藝流程。目前3C電子設(shè)備用到最多的拋光方式為CMP拋光工藝,最常用的金屬拋光液--不銹鋼拋光液。 吉致電子不銹鋼拋光液針對這些不銹鋼工件的拋光設(shè)計而成,適用于拋光304、316和316L等不銹鋼材料??捎糜诓讳P鋼件的粗拋、中拋和精拋工藝,以達到鏡面效果。不銹鋼拋光液經(jīng)過特殊配方調(diào)配,化學(xué)拋光作用溫和,對機臺和工
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吉致電子淺槽隔離拋光液怎么用
吉致電子淺槽隔離拋光液適用范圍:單晶硅、多晶硅的研磨拋光,存儲器制程和背照式傳感器(BSI)制程等。 STI Slurry 適用于集成電路當中的銅互連工藝制程中銅的去除和平坦化。具有高的銅去除速率,碟型凹陷可調(diào),低缺陷等特性??蓱?yīng)用于邏輯芯片以及3D NAND和DRAM芯片等量產(chǎn)使用。清除集成電路中銅拋光后表面的拋光顆粒和化學(xué)物殘留,以防銅表面腐蝕,降低表面缺陷。 可定制選擇穩(wěn)定的選擇比,去除速率,對氧化物/氮化物的選擇比。硅精拋液系列具有低缺陷的優(yōu)點。BS
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吉致電子CMP不銹鋼拋光液的特點
吉致電子CMP拋光液在不銹鋼材料的表面精密加工工藝中,能夠獲得高亮度、無視覺缺陷的拋光效果,在手機、pad、數(shù)碼相機等電子產(chǎn)品中有很好的應(yīng)用。吉致電子不銹鋼拋光液在實際應(yīng)用中憑借高濃度、高稀釋比例等卓越的性能得到了客戶的充分肯定,主要用于不銹鋼的CMP工藝,目前已在國內(nèi)主流的手機代工客戶處得到良好的應(yīng)用。能拋光不銹鋼LOGO鏡面,拋光后光滑如鏡,不出現(xiàn)R角,無麻點,無劃傷,無拋光紋,達到理想的光潔度。不銹鋼拋光液的特點:①能夠在不銹鋼的CMP過程中大大提高表面的光亮度和平坦化。②不銹鋼拋光液具有表面張力低、易清洗、
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吉致電子 射頻濾波器拋光液slurry廠家
射頻濾波器發(fā)展至今,基本主要有兩種構(gòu)型,其中,一類是SAW濾波器(聲表面波,Surface Acoustic Wave),另一類是BAW濾波器(體聲波,Bulk Acoustic Wave),而BAW濾波器又可細分為SMR(固態(tài)裝配諧振器,Solidly Mounted Resonator)和FBAR(薄膜腔諧振器,Film Bulk Acoustic Resonator)4-6。目前市場主流的濾波器是SAW(聲表面波濾波器)、BAW(體聲波濾波器)和FBAR(薄膜腔聲諧振濾波器) 隨著5
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相聚吉致 歡度中秋---2022年吉致電子科技中秋團建活動
相聚吉致 歡度中秋 月到中秋分外明,又是一年團圓日。2022年中秋月圓之際,吉致電子科技有限公司的小伙伴們舉辦了別開生面的慶?;顒?,自制月餅、小游戲:企鵝敲冰、氣球運杯子、誰是臥底等。 活動中大家同行協(xié)力,分工明確,親手做了別致的冰皮月餅甜甜美美香香糯糯,就跟吉致大家庭一樣充滿甜蜜和快樂。小伙伴們在歡聲笑語中迎接秋意濃情,共享團圓,吉致電子小編祝福大家祝福所有的客戶朋友中秋愉快,事業(yè)圓滿、家庭幸福,生活和和美美!本文由無錫吉致電子科技原創(chuàng),版權(quán)歸無錫吉致電子科技,未經(jīng)允許,不得轉(zhuǎn)載,轉(zhuǎn)載需附
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納米拋光液---納米氧化鋁拋光液
氧化鋁粉體具有多個晶體形態(tài),常見的有Y,θ,α,δ等相。其中α相的氧化鋁為其他相的氧化鋁高溫轉(zhuǎn)變而成。作為拋光液用的α氧化鋁顆粒,根據(jù)拋光(粗拋/精拋)的要求不同,a -Al2O3平均顆粒大小可以從100nm到500/1000nm而不同,但不管是何種拋光,氧化鋁的硬團聚體,或超大顆粒越少越好,這些超大顆粒會在拋光過程中給晶體表面造成劃傷,導(dǎo)致整個拋光過程失敗。所以,在制備以a-Al2O3為主體的拋光液過程中,如何控制超大顆粒是一關(guān)鍵。吉致電子氧化鋁研磨液/氧化鋁精拋液,顆粒經(jīng)表面改性處理,按特殊化學(xué)配方充分混合制備
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吉致電子CMP拋光液適用設(shè)備有哪些?
吉致電子研發(fā)的拋光液產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于金屬、光電、集成電路半導(dǎo)體、陶瓷、硬盤、面板顯示器等材質(zhì)表面的深度處理。吉致電子CMP拋光耗材產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于各種CMP領(lǐng)域,包括Lapping機臺、五軸機臺、單面拋光機、雙面拋光機等其他研磨拋光機臺設(shè)備。 拋光液升級配方可用于半導(dǎo)體行業(yè)硅片硅襯底減薄、碳化硅襯底拋光、藍寶石襯底拋光。針對性更強的拋光液產(chǎn)品如阻擋層化學(xué)機械拋光液,鎢化學(xué)機械拋光液以及介質(zhì)層化學(xué)機械拋光液、淺槽隔離化學(xué)機械拋光液、用于3D封裝TSV化學(xué)機械拋光液可詳細咨詢。拋光液的特點是不傷
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吉致電子納米氧化硅拋光液的特點
吉致電子納米氧化硅拋光液的特點:1,可提高工件拋光速率和平坦度加工質(zhì)量,氧化硅拋光液采用高純納米二氧化硅(SiO2)磨料及多種復(fù)合材料配置而成,不會對工件造成物理損傷,拋光率高。2,利用均勻分散的膠體二氧化硅粒子顆粒達到高速拋光的目的。3,硅溶膠純度高,拋光液不腐蝕設(shè)備,無毒無害使用安全性能高。4,可實現(xiàn)高平坦化加工。5,有效減少拋光后的表面劃痕,降低表面粗糙度。吉致電子通過科學(xué)工藝分散均勻的氧化硅顆粒,得到均勻分散的納米拋光液,具有高強度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐磨性等特點,是一種性能優(yōu)良的CMP技術(shù)用的
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什么是金剛石研磨液
金剛石研磨液由人造鉆石磨粒分散于水基或油基液體中制備而成,是一種具有優(yōu)良CMP拋光功效的拋光懸浮液,可用于硅片、硬質(zhì)合金、高密度陶瓷、藍寶石襯底體、精密光學(xué)元件、LED液晶面板等領(lǐng)域的拋光研磨。 拋光液所含微粒是研磨液機械作用的關(guān)鍵因素,不同種類、不同粒度的磨料拋光去除效果不同,適合于不同的加工要求。一般來講金剛石磨料硬度越高、粒徑越大,磨削效率越高、加工表面光潔度越低;相反金剛石磨料硬度越低、粒徑越小,其磨削效率越低、加工表面光潔度越高。可根據(jù)工件參數(shù)選擇不同型號和粒徑的金剛石研磨液進行
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鏡面拋光液---氧化硅拋光液在拋光中的作用
鏡面拋光液的主要材料是納米二氧化硅磨料,制備成的液體漿料也稱為硅溶膠拋光液。二氧化硅拋光液主要適用于拋光藍寶石襯底、硅片、半導(dǎo)體、精密電子工件、晶體等產(chǎn)品。二氧化硅拋光漿料主要利用硅膠離子的高速拋光來達到表面處理的效果。二氧化硅是用納米技術(shù)制成的。根據(jù)工件拋磨要求,可制備出不同切削力的產(chǎn)品達到鏡面拋光。粒度控制可以有效減少電子工件上的污垢,使用納米級硅膠顆粒加工工件,不會損傷工件,同時還能達到理想效果氧化硅拋光液需要配合精拋墊使用,精拋墊的主要成分是聚氨酯,聚氨酯的眾多孔隙可以將拋光液均勻地粘在其表面,與工件一起研
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氧化硅拋光液的結(jié)晶問題
氧化硅拋光液長時間暴露在空氣中,會使水分蒸發(fā)剩下固體氧化硅,造成硅晶體析出現(xiàn)象,稱之為結(jié)晶。在實際應(yīng)用時,硅溶膠拋光液會一直在磨盤內(nèi)旋轉(zhuǎn)循環(huán)及流動,結(jié)晶現(xiàn)象較少,但是高溫或拋光液濃度沒有配置好,會造成團聚,損傷工件,影響拋光效果。根據(jù)二氧化硅的特性,吉致電子拋光液廠家開發(fā)了抗結(jié)晶納米二氧化硅拋光液,可以長時間保持氧化硅穩(wěn)定液體狀態(tài)。拋磨工件時易搖散且不團聚,化學(xué)性能穩(wěn)定分散均勻,氧化硅精拋液拋光效率高,能有效縮短工時,磨拋后工件呈現(xiàn)鏡面效果,無劃傷、高平坦。 外需要注意的是,氧化硅拋光液的
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吉致電子---氧化硅拋光液的特點和作用
氧化硅拋光液的主要成分是高純二氧化硅粉為,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光液。氧化硅溶液其實就是市面上的硅溶膠,當然是二次加工后的硅溶膠。因為硅溶膠是膠狀的,不能直接研磨拋光。這項技術(shù)的主要應(yīng)用是CMP半導(dǎo)體拋光。該技術(shù)在相對早期階段就已存在,但市場應(yīng)用范圍較窄。 氧化硅外觀為乳白色懸浮液,呈堿性、中性、酸性。一般時間長了不會有沉淀,但是暴露在空氣中很快就會結(jié)晶,有一定的腐蝕性。不銹鋼工件在二氧化硅環(huán)境中容易生銹,拋光工件時應(yīng)及時清洗掉二氧化硅溶液。&n
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喜迎“六一”歡度“端午”----吉致電子員工團建活動
春光無限好,正是活動時!6月即將迎來“端午佳節(jié)”,吉致電子科技有限公司為了讓大家在繁忙的工作中放松心情、愉悅身心,特別組織了一場辦公室團建活動,讓大家釋放工作壓力,再燃工作斗志,提高團隊凝聚力和戰(zhàn)斗力。 活動日恰逢“六一”兒童節(jié),過期的大兒童們也要來湊熱鬧!公司貼心地準備了很多精美禮物,策劃了非常有趣的團建小游戲:敲冰企鵝,誰是臥底,氣球運杯子。 吉致電子的CMP拋光液研發(fā)工
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